新华社:芯片制造关键设备再突破 离子注入机实现全谱系产品国产化

时间:2021317日 来源:新华社  转载:标杆网

中国电科旗下装备子集团日前已成功实现离子注入机全谱系产品国产化可为全球芯片制造企业提供离子注入机一站式解决方案中国电科连续突破高性能离子源、高速晶圆传输等“卡脖子”技术自主研制中束流、大束流、高能、特种应用及第三代半导体等离子注入机工艺段覆盖至28nm累计形成核心发明专利413项实现我国芯片制造领域全谱系离子注入机自主创新发展有效缓解我国芯片制造领域断链、短链难题

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